【Study】「EUVリソグラフィ」

gigazine.net

という記事。

ムーアの法則の終焉が近づいている、というのは何年も前から言われていたことです。

そもそも回路が原子レベルまで小さくなれば、物理的に不可能なわけです。

今はその半導体回路で14nm世代、というらしいのですが、10nm世代の開発が遅れているとのこと。

それを回避できる可能性があるのが、EUVリソグラフィというものらしいです。

そもそもリソグラフィとはなんだ？となりますが、

英語でLithography。石板に絵や字を書くことのようです。リトグラフと言い換えればわかりやすいです。

EUVは極紫外線のことです。

この技術により、しばらくムーアの法則は延命できるかもしれません。

壁に当たると、次に生まれる新技術。

今後どういうものが生み出されるか、楽しみです。

図解入門よくわかる最新半導体製造装置の基本と仕組み[第2版]